825 設備特點
臺階高度：幾納米至1000um
微力恒力控制：0.03mg至50mg
樣品全直徑掃描，無需圖像拼接
視頻：500萬像素高分辨率彩色攝像機
圓弧矯正：消除由于探針的弧形運動引起的誤差
生產能力：通過測序，模式識別和SECS/GEM實現全自動化
主要應用
薄膜/厚膜臺階
刻蝕深度測量
光阻/光刻膠臺階
柔性薄膜
表面粗糙度/波紋度表征
表面曲率和輪廓分析
薄膜的2D Stress量測
表面結構分析
表面3D輪廓成像
缺陷表征和分析
其他多種表面分析功能
應用案例
P-7可以提供納米級到1000μm的2D和3D臺階高度的測量。 這使其能夠量化在蝕刻，濺射，SIMS，沉積，旋涂，CMP和其他工藝期間沉積或去除的材料。P-7具有恒力控制功能，無論臺階高度如何都可以動態調整并施加相同的微力。這保證了良好的測量穩定性并且能夠測量諸如光刻膠的軟性材料。
紋理：粗糙度和波紋度
P-7提供2D和3D紋理測量并量化樣品的粗糙度和波紋度。軟件濾鏡功能將測量值分為粗糙度和波紋度部分，并計算諸如均方根（RMS）粗糙度之類的參數。
外形：翹曲和形狀
P-7可以測量表面的2D形狀或翹曲。這包括對晶圓翹曲的測量，例如半導體或化合物半導體器件生產中的多層沉積期間由于層與層的不匹配是導致這種翹曲的原因。P-7還可以量化包括透鏡在內的結構高度和曲率半徑。
應力：2D和3D薄膜應力
P-7能夠測量在生產包含多個工藝層的半導體或化合物半導體器件期間所產生的應力。 使用應力卡盤將樣品支撐在中性位置并精確測量樣品翹曲。然后通過應用Stoney方程，利用諸如薄膜沉積工藝的形狀變化來計算應力。2D應力通過在直徑達200mm的樣品上通過單次掃描測量，無需圖像拼接。3D應力的測量采用多個2D掃描，并結合θ平臺在掃描之間的旋轉對整個樣品表面進行測量。
缺陷復檢
缺陷復查用于測量如劃痕深度之類的缺陷形貌。缺陷檢測設備找出缺陷并將其位置坐標寫入KLARF文件?！叭毕輳蜋z”功能讀取KLARF文件、對準樣本，并允許用戶選擇缺陷進行2D或3D測量。
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中冶有色技術平臺
湖南 - 郴州
2023年6月28日 ~ 30日
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